セミナー

本日のセミナーでの、ぼくの発表は可も無く不可も無くという感じだろうか。持ち時間が40分だったので、スライドに従って時間を気にしながらアドリブで話をすすめたが、少し時間をオーバーしてしまった。すみませんでした。ぼくの発表はさておき、このセミナーで聞いた話は大変勉強になった。富士通の金田さんの赤外レーザーでシリコン中の酸素拡散が促進されるという話は大変興味深かった。赤外レーザーの照射によって酸素原子の局在振動が励起され、酸素原子の拡散が促進されるということであった。それから、中尾さんのSOI基板を用いたSi層の炭化によるSiCエピ成長の結果も面白かった。どうもSOI基板上でのヘテロエピ成長は、普通のヘテロエピとはかなり成長機構が違うように思ったのだが、実際のとこどうなのだろうか。今日のセミナーはシリコン材料に関するかなり実用的なトピックスが多かったのだが、こういう話の中にも物理として興味深い現象がかなり潜んでいそうである。